Назва | Deposition and Surface Modification of Low-K Thin Films for ILD Application in ULSI Circuits | |
Автори | Y.S. Mhaisagar, B.N. Joshi, A.M. Mahajan | |
Випуск | Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 1 | |
Сторінки | 0106 - 0110 |
Назва | Impact of Annealing Temperature on Surface Reactivity of ZnO Nanostructured Thin Films Deposited on Aluminum Substrate | |
Автори | Zehira Belamri, Warda Darenfad, Noubeil Guermat | |
Випуск | Том 15, Рік 2023, Номер 2 | |
Сторінки | 02026-1 - 02026-4 |