Вплив міжфазної межі розділу на параметри бар’єрних переходів метал-напівпровідник

Автори В.С. Дмитрієв
Приналежність

Запорізька державна інженерна академія, пр. Соборний, 226, 69006, Запоріжжя, Україна

Е-mail dems562@gmail.com
Випуск Том 9, Рік 2017, Номер 1
Дати Одержано 25.05.2016, у відредагованій формі - 07.02.2017, опубліковано online - 20.02.2017
Посилання В.С. Дмитрієв, Ж. нано- електрон. фіз. 9 № 1, 01016 (2017)
DOI 10.21272/jnep.9(1).01016
PACS Number(s) 73.20. – r, 85.40.Sz, 85.30.Hi
Ключові слова Арсенід галію (7) , Срібло (5) , Бар’єр Шотткі (3) , Приконтактна область (2) , Відпал (31) , Перехідний шар (3) , Структура (214) .
Анотація В даний час дослідження і розробка гетеропереходів ведуться в напрямках розробки технологічних режимів створення проміжних фаз на межі метал-напівпровідник для зниження впливу поверхневих станів на роботу приладів з бар'єрами Шотткі. Недостатньо вивчений вплив міжфазної межі розділу на висоту бар'єру Шотткі φBn, хоча передбачається, що його електрофізичні властивості багато в чому визначаються станом структури в зоні контакту. Досліджувалися структури Ag/n-GaAs (111). Параметри підкладки: n-n+GaAs (111) В епітаксійний монокристалічний, dе.ш  2 мкм, nе.ш.  21016 см – 3, nпідкл  1018 см – 3,   5000 см2/(Вc). Бар'єрні переходи виготовляли в вакуумі (р  2,66 10 – 3 Па) термічним випаровуванням. GаAs- підкладки оброблялись в суміші толуолу і метанолу (1:2), в поліруючому травнику 3H2SO4-1H2O2-1H2O; витримувалися в діоксиянтарній кислоті НООС-СН(ОН)-СН(ОН)-СООН. Відпал структур проводили в інтервалі температур 723 ... 873 К протягом 5...15 хвилин. Рекомендований режим термічної обробки для отримання бар'єрів Шотткі Ag/n-GaAs (111) з висотою потенційного бар'єру порядка 0,95 В: температура відпалу – 823 К, тривалість відпалу ‑ 10 хвилин. Встановлений вплив температурного чинника на дифузію миш'яку і галію в плівку срібла, що призводить до формування перехідних областей неоднорідного хімічного складу.

Перелік посилань

English version of article