Моделирование процесса создания микрокомпонентов для вакуумной электроники и рентгеновской оптики с применением протонно-лучевой литографии

Автор(ы) А.Г. Пономарев1,2, А.С. Лапин1, С.В. Колинько1 , В.А. Ребров1, В.О. Журба2, М.В. Петровский2, В.Н. Коломиец1, С.Н. Кравченко1
Принадлежность

1 Институт прикладной физики НАН Украины, ул. Петропавловская, 58, 40000 Сумы, Украина

2 Сумский государственный университет, ул. Римского-Корсакова, 2, 40007 Сумы, Украина

Е-mail ponom56@gmail.com
Выпуск Том 9, Год 2017, Номер 6
Даты Получено 27.09.2017, в отредактированной форме – 29.10.2017, опубликовано online – 15.11.2017
Ссылка А.Г. Пономарев, А.С. Лапин, С.В. Колинько, и др., Ж. нано- электрон. физ. 9 № 6, 06010 (2017)
DOI 10.21272/jnep.9(6).06010
PACS Number(s) 42.82.Cr; 85.40.Hp; 81.16.Nd
Ключевые слова Микрокомпоненты, Протонно-лучевая литография, Сканирующая система, Дифракционная решетка.
Аннотация Проведено численное моделирование процесса сканирования сфокусированным пучком протонов с энергией 1 МэВ в канале протонно-лучевой литографии на базе электростатического ускорителя с целью выбора размеров отклоняющих пластин электростатической сканирующей системы. Условием выбора были максимальная величина растра сканирования на поверхности облучаемого образца и минимизация отклонения пучка вдоль оптической оси. Разработана программа построения профиля сканирования пучком, который адекватно отображает шаблон создаваемых микрокомпонентов. Отработан процесс подготовки образцов с нанесением тонкого слоя резистивного материала. Определены дозы облучения образцов протонным пучком для получения условий полного травления облученной области. Проведены тестовые эксперименты по проверке работоспособности системы управления процессом сканирования.

Список литературы

English version of article