Особенности роста наноразмерных слоев Mg2Si в многослойных рентгеновских зеркалах Si/Mg2Si

Автор(ы) Л.Е. Конотопский, И.А. Копылец, В.А. Севрюкова, Е.Н. Зубарев , В.В. Кондратенко
Принадлежность

Национальный технический университет “Харьковский политехнический институт”, ул. Фрунзе, 21, 61002 Харьков, Украина.

Е-mail kkana357@gmail.com
Выпуск Том 8, Год 2016, Номер 2
Даты Получено 20.01.2016, опубликовано online – 21.06.2016
Ссылка Л.Е. Конотопский, И.А. Копылец, В.А. Севрюкова, и др., Ж. нано- электрон. физ. 8 № 2, 02021 (2016)
DOI 10.21272/jnep.8(2).02021
PACS Number(s) 68.60. – p, 68.60.Dv, 68.65.Ac
Ключевые слова Многослойное рентгеновское зеркало, Силицид магния, Рентгеновский фазовый анализ, Электронная микродифракция.
Аннотация Электронно-микроскопическими и рентгенографическими методами исследованы особенности роста наноразмерных слоев силицида магния в многослойном рентгеновском зеркале Si/Mg2Si с периодом 14.7 нм в исходном состоянии и после отжига. Установлено, что в исходном состоянии слои силицида магния представляют собой аморфную матрицу с включениями нанокристаллической фазы силицида магния в неравновесной гексагональной модификации. Формирование силицида магния в гексагональной модификации происходит под действием механических напряжений, источником которых являются слои кремния. Отжиг многослойного рентгеновского зеркала Si/Mg2Si при Т = 723 К приводит к кристаллизации и рекристаллизации слоев силицида магния из аморфной фазы, что сопровождается уменьшением периода рентгеновского зеркала на 7.3 %.

Список литературы