Влияние безвакуумного отжига на морфологию покрытий NbNх, NbNx : Si

Автор(ы) В.Н. Рогоз1,2, А.П. Кузьменко3, О.В. Соболь4, А. Плющик1
Принадлежность

1 Сумский государственный университет, ул. Римского-Корсакова, 2, 40007 Сумы, Украина

2 NanoBioMedical Centre, Adam Mickiewicz University in Poznań, Umultowska 85, Poznań, Poland

3 Курский государственный технический университет, Центр коллективного пользования «Наукоемкие технологии», ул. 50 лет Октября, 94, 305040 Курск, Россия

4 Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт", ул. Фрунзе,21, 61002, Харьков, Украина

Е-mail v.rogoz2009@gmail.com
Выпуск Том 8, Год 2016, Номер 2
Даты Получено 08.02.2016, опубликовано online – 21.06.2016
Ссылка В.Н. Рогоз, А.П. Кузьменко, О.В. Соболь, А. Плющик, Ж. нано- электрон. физ. 8 № 2, 02019 (2016)
DOI 10.21272/jnep.8(2).02019
PACS Number(s) 81.40.Ef, 61.72. – y, 68.37. – d
Ключевые слова Морфология, Твердость, Отжиг, NbNх, NbNx : Si, Фазовый и элементный состав.
Аннотация В работе описываются особенности изменения нитридных покрытий NbNх и легированных атомами Si NbNx : Si с добавлением примеси кремния и без него. Образцы были получены методом магнетронного осаждения при отрицательном потенциале Us = – 40 В на подложку из кремния. После осаждения проводился высокотемпературный отжиг 800 °С в атмосфере воздуха.

Список литературы

English version of article