Влияние ионной имплантации Au– на микроструктуру аморфно-нанокристаллического AlN-TiB2-TiSi2

Автор(ы) E.В. Смирнова1, A.А. Демьяненко1, К.А. Дядюра1, А.С. Радько1, А.В. Пшик1,2, О.В. Кузовлев3, Х. Амекура4, К. Ойоши4, Й. Такеда4
Принадлежность

1 Сумский государственный университет, ул. Римского-Корсакова, 2, 40007 Сумы, Украина

2 Университет имени Адама Мицкевича в Познани, НaноБиоМедицинсий Центр, PL61614 Познань, Польша

3 Харьковский государственный университет им. В.Н. Каразина, пл. Свободы 4, 61022 Харьков, Украина

4 Национальный институт материаловедения (NIMS), 1-2-1 Сенген, 305-0047 Цукуба, Ибараки, Япония

Е-mail smyrnova_katerina@ukr.net
Выпуск Том 7, Год 2015, Номер 1
Даты Получено 04.02.2015, в отредактированной форме – 16.03.2015, опубликовано online 25.03.2015
Ссылка E.В. Смирнова, A.А. Демьяненко, К.А. Дядюра, и др., Ж. Нано- электрон. физ. 7 № 1, 01040 (2015)
DOI
PACS Number(s) 52.77.Dq, 61.72.uj, 81.07.Bc
Ключевые слова Ионная имплантация, Нанокристаллиты, Аморфная структура, Петли вакан-сионного и межузельного типа.
Аннотация Прямые измерения с помощью TEM, HRTEM, XRD и SEM с микроанализом показали, что термический отжиг 1300 ºС на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 10-15 нм из AlN, AlB2, Al2O3 и TiO2, а ионная имплантация отрицательных ионов Au- приводит к фрагментации (уменьшению) размеров нанозерен до 2-5 нм с образованием «сфероидов» из Au– и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия.

Список литературы