Temperature Influence on the Properties of Thin Si3N4 Films

Автор(ы) V.S. Zakhvalinskii1 , P.V. Abakumov2 , A.P. Kuzmenko2 , A.S. Chekadanov2 , E.A. Piljuk1 , V.G. Rodriguez1, I.J. Goncharov1, S.V. Taran1
Принадлежность

1 Belgorod National Research University, 85, Pobedy St., 308015 Belgorod, Russia

2 South-West State University, 94, 50 let Oktyabrya St., 305040 Kursk, Russia

Е-mail
Выпуск Том 7, Год 2015, Номер 4
Даты Получено 28.09.2015, опубликовано online – 10.12.2015
Ссылка V.S. Zakhvalinskii, P.V. Abakumov, A.P. Kuzmenko, et al., J. Nano- Electron. Phys. 7 No 4, 04052 (2015)
DOI
PACS Number(s) 75.50.Ee, 75.78.Fg
Ключевые слова Raman spectroscopy (18) , Small-angle x-ray scattering (6) , Atomic force microscopy (9) .
Аннотация Applying Raman spectroscopy, small-angle x-ray scattering, and atomic force microscopy it were studied phase composition and surface morphology of nanoscale films Si3N4 (obtained by RF magnetron sputtering).

Список литературы