Моделювання процесу створення мікрокомпонентів для вакуумної електроніки та рентгенівської оптики із застосуванням протонно-променевої літографії

Автор(и) О.Г. Пономарьов1,2, О.С. Лапін1, С.В. Колінько1 , В.А. Ребров1, В.О. Журба2, М.В. Петровський2, В.М. Коломієць1 , С.М. Кравченко1
Приналежність

1 Інститут прикладної фізики Національної академії наук України, вул. Петропавлівська, 58, 40000 Суми, Україна

2 Сумський державний університет, вул. Римського-Корсакова, 2, 40007 Суми, Україна

Е-mail ponom56@gmail.com
Випуск Том 9, Рік 2017, Номер 6
Дати Одержано 27.09.2017, у відредагованій формі - 29.10.2017, опубліковано online - 15.11.2017
Посилання О.Г. Пономарьов, О.С. Лапін, С.В. Колінько, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 9 № 6, 06010 (2017)
DOI 10.21272/jnep.9(6).06010
PACS Number(s) 42.82.Cr; 85.40.Hp; 81.16.Nd
Ключові слова Мікрокомпоненти, Протонно-променева літографія, Скануюча система, Дифракційна ґратка.
Анотація Проведено чисельне моделювання процесу сканування сфокусованим пучком протонів з енергією 1 МеВ в каналі протонно-променевої літографії на базі електростатичного прискорювача з метою вибору розмірів відхиляючих пластин електростатичної скануючої системи. Умовою вибору були максимальна величина розмірів растра сканування на поверхні зразка і мінімізація відхилення пучка вздовж оптичної осі. Розроблено програму побудови профілю сканування пучком, який адекватно відображає шаблон створюваних мікрокомпонентів. Відпрацьовано процес підготовки зразків з нанесенням тонкого шару резистивного матеріалу. Визначено дози опромінення зразків протонним пучком для отримання умов повного травлення експонованої області. Проведено тестові експерименти з перевірки працездатності системи управління процесом сканування.

Перелік посилань

Переклад англійською