Вплив відпалу кристала на орієнтаційну залежність ядерного квадрупольного резонансу в InSe

Автори В.О. Хандожко1, М.Д. Раранський1, В.Н. Балазюк1, З.Д. Ковалюк2
Приналежність

1 Чернівецький національний університет імені Юрія Федьковича, вул. Коцюбинського, 2, 58012 Чернівці, Україна

2 Чернівецьке відділення ІПМ ім. І. М. Францевича НАН України, вул. Ірини Вільде, 5, 58001 Чернівці, Україна

Е-mail
Випуск Том 5, Рік 2013, Номер 3
Дати Одержано 31.05.2013, опубліковано online 17.10.2013
Посилання В.О. Хандожко, М.Д. Раранський, В.Н. Балазюк, З.Д. Ковалюк, Ж. Нано- електрон. фіз. 5 № 3, 03050 (2013)
DOI
PACS Number(s) 76.60. – К, 76.60.Gv, 41.50. + h
Ключові слова ЯКР (4) , шаруваті сполуки, кристалографічна орієнтація, відпал кристалу.
Анотація Використовуючи метод ЯКР, досліджено залежність інтенсивності спектра від орієнтації кристалографічних осей анізотропного кристала щодо вектора магнітної компоненти високочастотного поля. Наявність залишкової інтенсивності резонансного спектру при Н1c свідчить про присутність в монокристалі дефектів – блоків з малими кутовими границями або іншими порушеннями в атомних шарах. Відпал кристалу при температурі 550 С супроводжується покращенням якості резонансних спектрів ЯКР та дифракційних максимумів на топограмах.

Перелік посилань